ОСОБЕННОСТИ  ФОРМИРВАНИЯ МИКРОСТРУКТУР В МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЯХ  ОСАЖДЕННЫХ ИЗ ПЛАЗМЫ ВАКУУМНОЙ ДУГИ  НА РАЗЛИЧНЫХ ТИПАХ ПОДЛОЖЕК

A.М. Жукешов; А.У. Амренова; У.Б. Абдыбай; Е.Е. Салимов; М.И. Пшиков

doi:10.26577/JPEOS202527344

Авторлар

A.М. Жукешов әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан https://orcid.org/0000-0001-9153-323X
Ә.У. Амренова әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан https://orcid.org/0000-0002-6945-3644
Ұ.Б. Абдыбай әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан https://orcid.org/0009-0002-5309-5827
Е.Е. Салимов әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан https://orcid.org/0009-0005-7712-6263
М.И. Пшиков әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан https://orcid.org/0000-0002-6602-0018

DOI:

https://doi.org/10.26577/JPEOS202527344

Түйін сөздер:

Жоғары энтропиялық қорытпа, плазмалық бүрку, қаптау, электрохимия, металл-ауа батареялары

Аңдатпа

Өтпелі металдар және олардың қорытпалары химиялық катализде кеңінен қолданылады және электрохимиялық отын элементтерінде сәтті қолданылады, олардың бірі металл-ауа батареялары (MAБ). Бұл зерттеу MAБ электродтарын жасау үшін өтпелі металдардан жасалған жоғары энтропиялық қорытпаны (ЖЭҚ) пайдалануды ұсынады. Катод үлгісі, Fe-Co-Ni-Nb-Mo композициясының қатты өтпелі металл қорытпасы төмен температуралық синтезді қолдану арқылы дайындалды және ВДУ-1 жүйесі арқылы плазмалық шашыратылджы. Мыс субстраттарында 94-103 мкм қалыңдықтағы және шашыраған катодқа ұқсас стехиометриялық құрамдағы үздіксіз қабаттар тұндырылды. Орташа вакуум жағдайында шашырату арқылы тұндырылған біртекті қапталған қабаттардың құрылымында жоғары оттегі мен көміртегі бар микроскопиялық қосындылар бар. Шашыраған катодтардың бетінде өлшемі 100-250 мкм болатын шеңберлі ойыстар табылды. Бұл ойыстар катодты нүктелерде шоғырланған бетіндегі доғалық токпен байланысты. МАБ энергетикалық өнімділігінің жоғарылауы анодтар ретінде плазмамен өңделген беттері бар ЖЭҚматериалдарын сынау кезінде көрсетілді. Интегралды ЖЭҚ катодын өңдеу кезінде оның бетінде тоқтың тығыздығын төмендететін және материалдың химиялық төзімділігін жақсартатын өрескел рельеф пайда болады. Оган себеп металл бетінде плазмалық өңдегеннен соң микро деңгейде қалыптасатын рельеф сырт беттің ауданын улкейтеді ал тоқ тығыздығын азайтады.

Автор өмірбаяндары

A.М. Жукешов, әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан

Жүкешов Ануар Муратович (корреспондент-автор) — физика-математика ғылымдарының докторы, әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университетінің плазма физикасы, нанотехнология және компьютерлік физика кафедрасының профессоры (Алматы қ., Қазақстан). E-mail: zhukeshov@physics.kz
Ә.У. Амренова, әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан

Амренова Әсем Уахитовна — физика-математика ғылымдарының кандидаты, әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университетінің плазма физикасы кафедрасының аға оқытушысы (Алматы қ., Қазақстан). E-mail: amrenova.asem@gmail.com
Ұ.Б. Абдыбай, әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан

Абдыбай Ұлан Болатбекұлы — әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университетінің плазма физикасы, нанотехнология және компьютерлік физика кафедрасының 2-курс докторанты (Алматы қ., Қазақстан). E-mail: Abdibay_ulan@mail.ru
Е.Е. Салимов, әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан

Салимов Ернар Ерланұлы — әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университетінің плазма физикасы, нанотехнология және компьютерлік физика кафедрасының постдокторанты (Алматы қ., Қазақстан). E-mail: salimov_ernar@mail.ru
М.И. Пшиков, әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университеті, Алматы қ., Қазақстан

Пшиков Мұстахим Искіндірұлы — физика-математика ғылымдарының кандидаты, әл-Фараби атындағы Қазақ ұлттық университетінің плазма физикасы, нанотехнология және компьютерлік физика кафедрасының аға оқытушысы (Алматы қ., Қазақстан). E-mail: mustahim.pshikov@gmail.com