ВТОРИЧНАЯ ИОННАЯ МАСС-СПЕКТРОСКОПИЯ КРЕМНИЕВЫХ НАНОНИТЕЙ, ЛЕГИРОВАННЫХ ФОСФОРОМ

Аннотация

В настоящей работе представленны результаты исследований кремниевых нанонитей, легированных фосфором методом термодиффузии, с помощью вторичной ионной масс спектроскопии. Кремниевые нанонити были выращены на поверхности монокристаллических кремниевых пластин с полированной и шлифованной поверхностьюметодом металл стимуллированного химического травления. Легирования нанонитей  атомами фосфора происходило при температурах 900 – 980⁰С в течение 15-40 минут. С помощью вторичной ионной масс спектроскопии исследованно распространение атомов фосфора по глубине нанонитей, рассчитаны динамические профили распределения  примеси в образцах, полученных на полированной и шлифованной поверхности кремниевых пластин. В результате анализа динамических профилей вторичной ионной масс спектроскопии для распределения соединений Si-Р в образцах легированных кремниевых нанонитей было выявлено, что максимальная концентрация атомов фосфора в таких образцах локализована преимущественно в наноструктурированном слое, а в слой объемного кремния дифундирует очень малое количество.  Оценочная глубина залегания легирующей примеси в кремниевые нанонитей составляет около 1300 нм.

Ключевые слова. кремниевые нанонити, легирование фосфором, термодиффузия, вторичная ионная масс спектроскопия.