ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРВАНИЯ МИКРОСТРУКТУР В МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЯХ ОСАЖДЕННЫХ ИЗ ПЛАЗМЫ ВАКУУМНОЙ ДУГИ НА РАЗЛИЧНЫХ ТИПАХ ПОДЛОЖЕК

Аннотация

Получение покрытий  с  микро- и мезоразмерными  структурами  актуально для  применения  в энергетике и других отраслях. Для получения покрытий использовался метод распыления металлических катодов в вакууме с применением импульсного дугового ускорителя. Эксперименты по осаждению металлических покрытий на различных типах подложек были проведены при разном уровне вакуума в ускорителе от 10^-2 до 10^-4 мбар. Как показали исследования, при высоком  вакууме на металлических подложках  осаждаются  тонкие слои с большим количеством микрочастиц с кластерной структурой, размеры частиц 0,2-4 мкм. При использовании кремниевых подложек, осаждение на них слоев металлов сопровождается формированием сферических полых микрочастиц размерами 0,3-0,8 мкм. Сравнение  физических условий показывает, что механизм формирования и роста микрочастиц идентичен на различных типах подложек, и связан с формированием плазмы. В отличие от других плазменных технологий получения микросфер, на данной установке такие частицы генерируются без внедрения  материала  извне в струю.