ИССЛЕДОВАНИЕ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОЙ СТРУКТУРЫ ПОЛИИМИДА, ПОЛУЧЕННОГО НА ОСНОВЕ ПЛЕНКООБРАЗУЮЩЕГО ПОКРЫТИЯ
Аннотация
В данной работе показаны экспериментальные исследования поверхности тонких аморфных пленок серебра. Топографические изображения поверхности металлических пленок характеризуются шероховатым рельефом, в целом морфология соответствует кластерной (блочной) структуре. Видимые размеры кластеров, как правило, коррелируют с толщиной пленок, сами кластеры имеют неизометрическую округлую форму, поверхностная огранка не просматривается, хотя в последствие, вероятно, плотной упаковки нередко они принимают форму полиэдров. Кластеры серебряных пленок визуализируется достаточно четко, кластеры хорошо разрешаются по отдельности, что проявляется ввиде трещиноватости пленки, при этом статистический разброс размеров относительно невелик. Полученные результаты показывают, что с возрастанием дозы облучения для всех трех типов металлизации образцов наблюдается существенный рост электросопротивления.
Ключевые слова: пленка, аморфные пленки серебра, порошок, наночастицы, электрическое сопротивление.
